Американская компания Akhan Semiconductor, специализирующаяся на производстве и применении синтетических, выращенных в лаборатории алмазных материалов для электроники, полупроводникового производства и других областей применения, продемонстрировала возможность производства «алмазных» пластин CMOS диаметром 300 мм. По её словам, эти пластины станут прорывом в отрасли, позволив улучшить энергопотребление, охлаждение и долговечность электроники с небольшим изменением существующих производственных процессов.
![У Akhan Semiconductor готова первая в своем роде «алмазная» пластина диаметром 300 мм](/img/x780/n1/news/2021/6/2/mirajwafer.jpg)
Как утверждается, присущие алмазу свойства делают его оптимальным материалом для полупроводникового производства, намного превосходящим кремний, уже более шести десятилетий являющийся основным материалом отрасли. Даже для производства с применением наиболее передовых технологий производители полупроводниковой продукции традиционно полагаются на кремниевые пластины диаметром 300 мм, несмотря на то, что они вплотную подступили к физическим ограничениям кремния. В Akhan уверены, что, по мере того как мировая промышленность выходит за рамки закона Мура, способность производить 300-миллиметровые алмазные пластины имеет решающее значение для производителей полупроводниковой продукции, особенно в таких передовых отраслях, как аэрокосмическая, телекоммуникационная, военная и оборонная промышленность, а также бытовая электроника.
Остаётся добавить, что речь идет о формировании на поверхности обычной пластины алмазного нанослоя, который придаёт ей описанные выше достоинства. В частности, по теплопроводности он в 5 раз лучше меди и в 22 раза лучше кремния. Алмаз превосходит кремний и по диэлектрическим свойствам.