ASML под давлением США прекращает поставки литографов в Китай

Лидер по производству литографического оборудования компания ASML под давлением Белого дома вынуждено разрывает действующие контракты с китайскими заказчиками.

Служба национальной безопасности США поднимала данный вопрос перед правительством Нидерландов, однако там его переадресовали непосредственно к руководству ведущей компании по созданию оборудования для производства чипов.

В сей раз проблема коснулась оборудования для DUV процесса (иммерсионная глубокая УФ литография с длиной волны 193 нанометра).

Это не первый шаг администрации Соединенных Штатов. Около двух лет назад был ограничен импорт в Китай литографического оборудования по технологии EUV, где длина волны составляет 13,5 нанометра. Такие литографические сканеры могут применяться для создания микросхем с топологией 3 и менее нм.

DUV сканеры позволяют производить практически те же чипы, но процесс производства более затратный так, как здесь применяются многочисленные маски. Тем не менее китайские производители уже наладили производство по 7-ми нанометровому техпроцессу.

Прогнозируя новую волну санкций Китай в прошлом году существенно нарастил объемы импорта литографического оборудования в страну и успел сделать не малый задел, в чем в США усмотрели угрозу национальной безопасности.

И хотя в ASML уверяют, что прекращение поставок затронуло лишь небольшое количество покупателей и не скажется существенным образом на финансовых показателях компании, вопрос разрыва контрактов вышел за рамки компетенции производителя так, как лицензия на экспорт была отозвана властями Нидерландов.